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Nikalyte NL-50磁控濺射儀專(zhuān)為研究納米粒子特性的研究人員設(shè)計(jì)，使用方便，結(jié)構(gòu)緊湊。利用磁控濺射技術(shù)在真空中從固體源材料生成一束超純納米粒子，整個(gè)過(guò)程不使用任何化學(xué)品或表面活性劑

Radiant PiezoMEMS薄膜壓電分析儀將數(shù)字、模擬和通信電路功能與已有的精密Multiferroic非線性材料測(cè)試儀相結(jié)合，所有這些功能都由Radiant的Vision可編程測(cè)試環(huán)境進(jìn)行監(jiān)測(cè)。壓電MEMS分析儀不僅測(cè)量商用產(chǎn)品的致動(dòng)器和傳感器元件的壓電特性，還將與產(chǎn)品的電子邏輯進(jìn)行通信，與嵌入式微處理器進(jìn)行通信，提供異步電壓和脈沖，并測(cè)量傳感器頻率。

Evap-4 Power Supply電子束蒸發(fā)電壓控制器用于電子束蒸發(fā)器，具有高效、緊湊的4通道，具備共蒸發(fā)能力。迷你電子束蒸發(fā)器能夠在沉積常見(jiàn)工藝金屬（如金、銀和鉻）時(shí)提供佳的控制力，并且與熱舟源相比，對(duì)基底和周?chē)h(huán)境的熱負(fù)荷極小。

Mini E-Beam Evaporator小型電子束蒸發(fā)器是一種用于高精度薄膜沉積的edge-cutting工具。它適用于研究和生產(chǎn)環(huán)境，這種緊湊的系統(tǒng)利用電子束直接加熱坩堝中的蒸發(fā)物，能夠以的控制力沉積金屬。與傳統(tǒng)的熱蒸發(fā)方法相比，Mini E-Beam Evaporator具有更高的效率，對(duì)基底的熱負(fù)荷更低，并且能夠同時(shí)共蒸發(fā)多種材料，使其成為各種涂層應(yīng)用中多功能且可靠的解決方案。

Nikalyte NL-UHV磁控濺射儀能夠在超真空中生成和沉積納米顆粒，以在樣品上創(chuàng)建功能化表面。 可以通過(guò)精確控制納米顆粒的尺寸、組成和結(jié)構(gòu)來(lái)定制納米顆粒涂層的特性，從而實(shí)現(xiàn)定制化特性。

Nikalyte NL-UHV超高真空納米顆粒沉積源允許將超純納米顆粒直接沉積在各種基底和材料上。可以調(diào)整膜的密度，并且涂層能夠很好地附著在樣品表面。 NL-UHV有多種配置可供選擇，包括單個(gè)1英寸和2英寸源，以及三重1英寸源NL-DX3，后者允許單獨(dú)或作為合金沉積多達(dá)三種材料。